SUNDI -45℃~250℃ 2020/06/11 未分类 904 功能参数 电源功率(kW):6.2kW~280kW 加热功率(kW):3.5~200 流量(L/min):35~600 压力(bar):1.2~2.5 导热介质控温精度:±0.5℃ 反应物料控温精度:±1℃
产品介绍技术文档配套产品 制冷加热控温系统的典型应用:高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、双层反应釜冷热源动态恒温控制、微通道反应器冷热源恒温控制;小型恒温控制系统、蒸馏系统控温、材料低温高温老化测试、组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制。 制冷加热控温系统优点与功能:温度范围从-120℃至350℃,性能优越,高精度、智能型温度控制。多功能报警系统和安全功能、7寸、10寸彩色TFT触摸屏图形显示,采用磁力驱动泵,没有轴封泄漏问题。高温降温技术,可以从300℃直接制冷降温【因为只有膨胀腔体内的导热介质才和空气中的氧气接触(而且膨胀箱的温度在常温到60度之间),可以达到降低导热介质被氧化和吸收空气中水份的风险。 工业自动化温控设备压缩机式冷水机(常温型)的工作原理、行业应用及选型优化策略 在工业自动化领域,温度控制的准确性与稳定性有助于提升生产流程和产品质量。压缩机式冷水机(常温型)作为实现温控的关键设备之一,凭借其成熟的工作原理和... 工业级单流体温控系统核心技术从宽温域准确调控到复杂工艺适配的智能解决方案 在工业生产进程中,温度控制作为关键环节之一,其精度与稳定性直接关联到产品质量、生产效率乃至工艺安全。单流体加热制冷系统温控解决方案凭借成熟的技术架... 新能源电池测试中的闭式循环加热系统从准确温控算法到苛刻环境模拟的完整解决方案 在新能源电池技术快速发展的当下,电池性能测试作为保障产品质量与安全性的关键环节之一,其测试环境需要苛刻温度控制。闭式循环加热系统凭借成熟的技术架构... 半导体制造中TCU控温单元Chiller的技术原理从薄膜沉积到芯片测试的高精度温度控制解决方案 在半导体制造领域,温度控制的精度与稳定性直接影响产品良率与性能。TCU控温单元Chiller作为配套温控设备之一,其技术特性与应用模式在半导体生产流程中应用... 查看所有 上一篇: SUNDI -45℃~300℃ 下一篇: SUNDI -25℃~300℃