【冠亚恒温】半导体Chiller：准确温控，赋能芯片制造

2026/03/24 分类:行业新闻 3

在半导体制造工艺中，温度是决定成败的关键。光刻、刻蚀、沉积、离子注入……每一道工艺都对温度波动敏感，微小的热漂移就可能导致数千万美元的晶圆报废。无锡冠亚恒温制冷技术有限公司，深耕温控领域多年，凭借自主研发的无模型自建树算法与自适应控制技术，推出了高精度半导体Chiller（冷热循环系统）。我们致力于为半导体制程提供稳定、智能的温控解决方案，助力中国“芯”制造。

【冠亚恒温】半导体Chiller：准确温控，赋能芯片制造-无锡冠亚恒温制冷

核心优势：不止于±0.005℃的稳定控温

冠亚恒温半导体Chiller不仅仅是一台制冷设备，它是集热交换器、循环泵、压缩机、智能控制系统于一体的温控平台。

高精度：采用PID算法与无模型自建树算法相结合，控温精度高可达±0.005℃（出口温度稳态）。无论是-100℃的深冷环境还是+90℃的高温制程，均能实现稳态控制，满足5nm及以下先进制程的严苛要求。

快速响应：在自创的无模型自建树算法基础上加入自适应控制技术，显著提高了Chiller在面对负载波动时的响应速度与稳定性，解决了传统温控设备“超调大、稳定慢”的痛点。

多通道独立控温（双通道系列）：针对刻蚀机、CVD设备等多腔室工艺需求，提供双通道独立控温机型。两套独立的系统可分别设定不同的温度范围、流量和制冷能力，有效减少设备占地面积，实现准确分区控制。

变频设计：在40℃以内的加热工况中，采用压缩机热气加热技术，无需额外配备电加热器，大幅降低运行能耗；同时搭载变频技术，实现节能。

全场景应用：覆盖半导体制程全流程

冠亚恒温半导体Chiller广泛应用于半导体制造的各个关键环节，为设备提供恒温保障：

工艺环节	应用场景	冠亚恒温解决方案
光刻工艺	冷却DUV/EUV激光源及投影物镜，防止光学元件热膨胀变形。	提供±0.05℃~±0.1℃高精度温控，确保光刻图案的准确对位。
刻蚀工艺	稳定刻蚀反应腔及射频电源温度，保证刻蚀速率均匀性。	支持多通道独立控温，适应不同腔体差异化需求，提高蚀刻均匀性。
薄膜沉积	CVD/PVD设备反应室与管道温度控制，保证薄膜沉积质量。	宽温域范围（-100℃~+90℃），兼容高温与低温工况，防止薄膜应力不均。
离子注入	冷却离子源和加速器电极，确保离子束稳定，防止晶格损伤。	设备具备抗电磁干扰能力，确保在强电磁环境下传感器信号的稳定性。
测试与封装	电子测试环境维持及封装固化温度控制。	快速温变控温卡盘（-75℃~200℃），自带制冷机，避免液氮消耗，适用于高密度功率器件测试。