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半导体反应腔室控温系统的使用性能

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半导体反应腔室控温系统是拥有制冷和加热的恒温源,通过软管与其他设备相连,作为恒温源配套使用。那么,用户再选购时就要从它的使用性能,各部分动作的平稳性、灵活与否、机身高度离地间隙等,看看是否能满足自己的工况要求,又或是经济指标是否合理、机器操作是否可靠、稳定。

半导体反应腔室控温系统的使用性能-无锡冠亚恒温制冷

1、是用于医药生化行业实验室中提供冷源、热源以及恒温的实验条件的仪器设备。

2、将制冷和加热集于一身,来进行实验,采用电气来来控制制冷量和加热量,让箱体内的反应温度达到用户所需温度。

3、用于多种多台控温系统,采用了PID温度控制算法,利用单一的热交换介质来控制反应釜的反应温度,采用全密闭管路来减少反应介质的切换过程,减轻了导热介质的氧化程度,延长了导热介质的使用寿命。

4、运用的PID控温方式可以提高设备的控温准确度,采用自动控制方式可以减少人为因素的影响,简化了设备的操作程序,也避免了操作失误对设备的影响。

5、可以尽快响应控温中的系统滞后问题,控制系统由主回路和从回路两组构成,主回路通过控温温度变化以及梯度变化,保证达到控温的准确度。

6、当半导体反应腔室控温系统通电时,切不可断开或者重新连接这两个部件之间的电缆。这会破坏模块的电路。

7、从维护和安装时的方便和安全方面考虑,确保在室内机和障碍物之间有足够的空间。

8、采用进口的压缩机来进行运作,在运作过程中吸收空气中的热量从而得到热水。通过对循环水温度的调整带动反应物体的温度进行制冷冷却。从而实现了高温低温都能进行正常反应。

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